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triphenylsulfanium,4-(tert-butyl)phenyl)diphenylsulfonium

ProductNum CAS No. MDL No. PubChem ID Formula MW Purity Appearance
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Product Name triphenylsulfanium,4-(tert-butyl)phenyl)diphenylsulfonium
CAS0-0-YH84018
ProductNumYH84018
FormulaC22H25NF10S3O4
MW643

電子級三苯基硫全氟丁烷磺酸鹽是一種高純度的有機硫化合物,具有出色的熱穩(wěn)定性和化學穩(wěn)定性。該化合物由三苯基硫陽離子和全氟丁烷磺酸根陰離子組成,是一種強酸性光酸生成劑(PAG),主要應用于深紫外(DUV)和極紫外(EUV)光刻工藝中。由于其優(yōu)異的光化學反應性和低金屬雜質含量,該產品特別適合用于高精度光刻膠和抗蝕劑的配方,能夠顯著提高圖形分辨率和顯影性能。

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【物理性質】

1.基本性質

分子式:C22H25NF10S3O4

分子量:643 g/mol

外觀:白色或淺黃色結晶粉末

純度:≥99.5%

2.溶解性

易溶于極性有機溶劑,如乙腈、丙酮和二氯甲烷。

在水中溶解度較低,但在混合溶劑體系中表現(xiàn)出良好的溶解性。

3.熱穩(wěn)定性

熱分解溫度高(>250°C),適用于高溫條件下的光刻工藝。

需存儲在干燥、陰涼環(huán)境,避免長時間暴露于空氣和濕氣中。

【應用領域】

1.光酸生成劑(PAG

作為先進光刻膠的光酸生成劑,在深紫外(DUV)和極紫外(EUV)光刻中表現(xiàn)優(yōu)異,能夠在曝光后釋放強酸,從而提升顯影效率和圖形保真度。適用于高分辨率和高靈敏度的光刻膠配方,有助于實現(xiàn)精細圖形結構。

2.抗蝕劑和光刻膠

用于高性能抗蝕劑和光刻膠的配方中,提升材料的光敏性能和耐化學蝕刻性能。在微電子加工中,提供卓越的顯影性能和邊緣分辨率,適用于先進的芯片制造。

3.電子材料添加劑

作為電子材料中的功能性添加劑,提升薄膜的機械強度和耐熱性能。廣泛應用于半導體器件、顯示器和光電子器件的制造中,提高產品性能和穩(wěn)定性。

電子級三苯基硫全氟丁烷磺酸鹽憑借其高純度和出色的光化學性能,成為現(xiàn)代光刻和電子材料領域的重要化學品,支持高精度和高可靠性的加工工藝。


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86-571-82693216
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