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triphenylsulfanium,iodide

ProductNum CAS No. MDL No. PubChem ID Formula MW Purity Appearance
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Product Name triphenylsulfanium,iodide
CAS3744-08-9
ProductNumYH84020
FormulaC18H15IS
MW389.99

電子級三苯基碘化硫鎓鹽是一種高純度的有機硫化合物,廣泛應用于半導體和光電子領域。該化合物由三苯基硫鎓陽離子和碘化物陰離子組成,具有優(yōu)異的光敏性能和熱穩(wěn)定性,常用作光酸生成劑(PAG)或光敏化合物的原料。三苯基碘化硫鎓鹽能在光照或熱處理下生成強酸,是光刻膠和抗蝕劑配方中提升顯影效果和分辨率的重要成分。其電子級純度和低金屬雜質(zhì)含量確保了在高精密制造中的穩(wěn)定性和可靠性。

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【物理性質(zhì)】

1.基本性質(zhì)

分子式:C18H15IS

分子量:389.99 g/mol

外觀:白色或淺黃色結(jié)晶粉末

純度:≥99.5%

2 .溶解性

易溶于極性有機溶劑,如乙腈、丙酮、二甲基亞砜(DMSO)。

在水中溶解度較低,但在某些混合溶劑中表現(xiàn)出良好的溶解性能。

3.熱穩(wěn)定性

熱分解溫度較高(>200°C),適用于高溫光刻和加工工藝。

需存儲在干燥、避光環(huán)境下,避免吸濕和長時間暴露于空氣中。

【應用領域】

1.光酸生成劑(PAG

作為光刻膠中的光酸生成劑,在深紫外(DUV)和極紫外(EUV)光刻工藝中,能夠在曝光后釋放出強酸,從而提高顯影反應的靈敏度和分辨率。適用于先進光刻技術,可改善圖形邊緣清晰度和精度。

2.光敏化合物的原料

用于合成光敏材料和感光聚合物,可作為光固化涂料、膠黏劑和光電器件中的關鍵成分。其強酸生成特性使其在光固化過程中表現(xiàn)出優(yōu)異的催化效果。

3.抗蝕劑和電子材料

在抗蝕劑配方中用于提升材料的感光性和化學穩(wěn)定性,廣泛應用于半導體制造、顯示器生產(chǎn)和精密電子器件加工。作為電子材料的添加劑,能夠提高薄膜材料的耐熱性和機械強度,增強電子器件的性能和可靠性。

電子級三苯基碘化硫鎓鹽憑借其高純度、優(yōu)異的光化學性能和穩(wěn)定性,是現(xiàn)代光電子材料和先進半導體制造中的重要化學品。


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86-571-82693216
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